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與濕法清洗相比,Harrick等離子清洗機的優(yōu)勢表現(xiàn)在哪里?

更新時間:2021-11-20      點擊次數(shù):880
  等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)。通常,物質(zhì)以固體、液體和氣體三種狀態(tài)存在,但在某些特殊情況下,它可以以第四種狀態(tài)存在,例如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣電離層中的物質(zhì)。這種物質(zhì)的狀態(tài)稱為等離子體態(tài),也稱為物質(zhì)的第四態(tài)。
  等離子體中存在以下物質(zhì):高速運動的電子;處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(自由基);電離的原子和分子;分子解離反應(yīng)過程中產(chǎn)生的紫外線;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)整體保持電中性。
 

Harrick等離子清洗機

 

  與濕式清洗相比,Harrick等離子清洗機的優(yōu)點如下:
  1、等離子清洗后,清洗后的物體非常干燥,無需干燥即可送入下道工序。
  2、不使用三氯乙烯ODS有害溶劑,清洗后不會產(chǎn)生有害污染物。是一種有利于環(huán)境保護的綠色清潔方式。
  3、可以深入到物體的微孔和凹陷處,完成清潔任務(wù),無需考慮被清潔物體形狀的影響。
  4、Harrick等離子清洗機整個清洗過程可在幾分鐘內(nèi)完成,因此具有效率高的特點。
  5、等離子清洗的技術(shù)特點是可以處理不同的基材而不管處理對象。無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等聚合物)都可以很好地進行等離子體處理。因此,它特別適用于耐熱和耐溶劑的基材。此外,可以選擇性地清潔材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)。
  6、在清洗去污的同時,還可以改變材料本身的表面性質(zhì)。如提高表面的潤濕性,提高薄膜的附著力等。
  7、自動化程度高;Harrick等離子清洗機采用高精度控制裝置,時間控制精度非常高;正確的等離子清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層,保證表面質(zhì)量;由于是在真空中進行,不污染環(huán)境,保證清潔后的表面不會受到二次污染。
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